突破材料极限!这种二维超晶格膜,能抗 1800K 极端热冲击? | 乐研试剂
发表时间:2025-09-05在材料科学的世界里,有一个长期存在的难题:强度和韧性似乎总是 “鱼与熊掌不可兼得”。尤其是在二维材料领域,要让薄膜同时承受极端应变、剧烈温度变化并抵抗裂纹扩展,简直是难上加难。
但最近,中国科学家刘忠范院士团队研发的一种新型二维莫尔超晶格膜,彻底打破了这个 “魔咒”。它不仅像石墨烯一样坚固,还具备六方氮化硼的出色韧性,更能在 1800K 的高温冲击下 “安然无恙”,堪称材料界的 “超级英雄”(Adv.Mater.2025,e02792.DOI: 10.1002/adma.202502792)。
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材料界的 “矛盾体” 难题
二维材料(如石墨烯、六方氮化硼)凭借独特的物理化学特性,在先进电子、热管理、高效分离等领域被寄予厚望。但实际应用中,它们面临一个棘手问题:高强度材料往往很脆(比如石墨烯,虽然强度惊人,但一旦出现裂纹就会快速断裂);高韧性材料又不够坚固(比如六方氮化硼,能通过裂纹偏转抵抗断裂,但整体强度不足)。为了兼顾两者,科学家们曾尝试添加缺陷或复合其他材料,却总会牺牲材料的固有性能。直到研究团队想到一个巧妙的办法:把石墨烯和六方氮化硼 “垂直堆叠” 起来,利用范德华力形成莫尔超晶格结构。

图1. 具有洁净界面的二维 hBN/石墨烯莫尔超晶格的设计与制备
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两种材料的 “完美联姻”
这种二维 hBN/Gr 莫尔超晶格膜的设计思路,就像给石墨烯穿上了一件 “韧性铠甲”:石墨烯层提供基础强度,保证材料能承受巨大的晶格应变;六方氮化硼层则负责 “化解危机”,通过裂纹偏转、分叉等方式释放能量,阻止断裂蔓延。实验显示,这种 “组合拳” 效果显著:其强度与双层石墨烯相当,平均极限应力达 71.8GPa;断裂韧性却远超石墨烯,能量释放率更高,裂纹扩展更稳定。更令人惊叹的是它的抗热冲击能力。在 10?K/s 的极速加热下(相当于瞬间从室温飙升到 1800K),经过 200 次循环后,仍有 95% 的膜保持完好。而同样条件下,双层石墨烯膜的完好率仅剩 50%。

图2. 具备优异耐热冲击性能的高稳健性二维 hBN/石墨烯莫尔超晶格膜
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显微镜下的 “断裂艺术”
通过透射电子显微镜观察发现,这种超晶格膜的断裂行为堪称 “教科书级别”:裂纹在六方氮化硼层中会自发偏转、分叉,形成粗糙的边缘,避免快速扩展;即使上层六方氮化硼出现局部孔隙,下层石墨烯也能 “另起炉灶”,在偏离缺陷的位置重新形成裂纹,进一步分散应力。分子动力学模拟还证实,扭转角度会影响材料性能 ——5° 扭转角的超晶格膜断裂韧性最高,这为精准调控材料性能提供了新思路。

图3. 体现其内在韧性的二维 hBN/石墨烯莫尔超晶格膜的力学性能
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从实验室到应用场景
这种 “刚柔并济” 的特性,让二维 hBN/Gr 超晶格膜在极端条件下大显身手。研究团队已成功用它作为支撑膜,通过闪速焦耳加热技术合成出均匀分布的高熵合金纳米颗粒(HEA-NPs)。高熵合金因优异的催化性能被广泛关注,但合成过程需要反复高温冲击,普通支撑膜难以承受。而这种超晶格膜不仅稳定支撑了合成过程,还能通过高分辨率电镜清晰观察纳米颗粒的结构 —— 其面心立方晶体结构和 8 种元素的均匀分布,都被完美记录下来。未来,它还可能应用于:极端环境下的电子显微镜支撑膜;高效传感器和高温热管理器件;非平衡化学合成中的稳定反应平台。
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改写材料设计规则
这项研究的意义,远不止于发明一种新型薄膜。它证明了通过范德华堆叠设计,可以让不同材料的优势互补,突破单一材料的性能极限。就像石墨烯和六方氮化硼的 “联姻”,既保留了各自的长处,又创造出 1+1>2 的新特性。或许在不久的将来,这种 “强强联合” 的设计思路,会让更多极端环境下的材料难题迎刃而解。
乐研石墨烯产品

1、单层氧化石墨烯 片状 经典 | Single layer graphene oxide flakes | 7440-44-0 - 乐研试剂
2、大片径氧化石墨烯片 | Large diameter graphene oxide sheet | 7440-44-0 - 乐研试剂
3、氧化石墨粉末 | Oxidized graphite powder | 7440-44-0 - 乐研试剂
4、单层石墨烯粉末物理法 | Single layer graphene powder physic | 1034343-98-0 - 乐研试剂
5、单层石墨烯粉末化学法 | Single layer graphene powder chemic | 7440-44-0 - 乐研试剂
6、石墨烯纳米片 3-10 nm | Graphene nanosheets 3-10 nm | 7440-44-0 - 乐研试剂
7、石墨烯纳米片 1-5 nm | Graphene nanosheets 1-5 nm | 7440-44-0 - 乐研试剂
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10、茶多酚还原氧化石墨烯 | Tea polyphenols reduce oxidized gra | 7440-44-0 - 乐研试剂
11、维生素C还原氧化石墨烯 | Vitamin C reduces oxidized graphene | 7440-44-0 - 乐研试剂
12、羧基化氧化石墨烯粉末 | Carboxylated graphene oxide powder | 7440-44-0 - 乐研试剂
13、羧基化还原氧化石墨烯粉末 | Carboxylated reduced graphene oxide | 7440-44-0 - 乐研试剂
14、硼掺杂还原氧化石墨烯粉末 | Boron doped reduced graphene oxide - 乐研试剂
15、磺化还原氧化石墨烯粉末 | Sulfonated reduced graphene oxide p - 乐研试剂
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