光刻胶领域的秘密武器，撬动纳米级芯片制造大格局

每一颗芯片的诞生，都离不开一种神奇的化学材料——光刻胶。而在高端光刻胶材料的研发中，金刚烷三醇（CAS: 99181-50-7）凭借其独特的分子结构和卓越性能，正在成为高端光刻胶领域的关键支撑材料，为芯片制造的极限精度保驾护航。

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金刚烷家族的 “三羟基战士”

天生的光刻胶材料

金刚烷三醇（1,3,5-Adamantanetriol）在高端光刻胶研发中确实是重要的“明星分子”。这种独特的刚性结构和多羟基特性，使其成为多种高性能材料的关键组成部分。

它并非直接以“游离态”形式存在于最终的光刻胶产品中，而是作为关键的合成中间体或构筑单元，通过化学反应将其独特的刚性金刚烷结构整合到光刻胶聚合物的主链或侧链中，从而发挥重要作用。

①作为光刻胶的单体或共聚物：

负性光刻胶：金刚烷三醇可以作为单体，通过聚合反应形成负性光刻胶。负性光刻胶在曝光后，曝光区域发生聚合或交联反应，变得不可溶于显影液，从而形成负像。

金刚烷三醇的三个羟基可以提供多个反应位点，有利于形成交联网络，提高光刻胶的耐蚀性和分辨率。

正性光刻胶：在某些情况下，金刚烷三醇也可以作为正性光刻胶的组分。正性光刻胶在曝光后，曝光区域发生分解或溶解度变化，变得可溶于显影液，从而形成正像。

金刚烷三醇的引入可以改善光刻胶的溶解性、粘附性和分辨率。

上表为金刚烷三醇及其衍生的光刻胶单体举例

②作为光刻胶的添加剂：

溶剂：金刚烷三醇作为光刻胶的溶剂，可以帮助溶解其他组分，改善光刻胶的涂覆性能和成膜性。

稳定剂：作为光刻胶的稳定剂，可以提高光刻胶的储存稳定性和使用寿命。

增敏剂：作为光刻胶的增敏剂，可提高光刻胶的光敏性和分辨率。

抗蚀剂：作为光刻胶的抗蚀剂，也提高光刻胶对蚀刻工艺的耐受性。

总而言之，金刚烷三醇作为一种重要的光刻胶原料，凭借其独特的结构和性质，在提高光刻胶的分辨率、灵敏度、耐蚀性和粘附性等方面展现出巨大的潜力。

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突破分辨率极限

从 DUV 到 EUV 的全场景适配

光刻胶的核心使命是实现纳米级图形的精准转移，这对材料提出了近乎苛刻的要求：

既要在曝光时发生显著的 solubility 变化（高对比度），

又要在刻蚀过程中保持结构稳定（高抗蚀性），

还要适应不同波长光源的能量特性。

金刚烷三醇通过化学修饰，完美满足了这些需求。

在深紫外（DUV）光刻领域（248nm 和 193nm 波长），科研人员将金刚烷三醇的羟基与酸敏感基团（如叔丁酯基）结合，制备出的单分子树脂光刻胶展现出卓越性能。

更令人瞩目的是其在极紫外（EUV）光刻中的应用潜力。基于金刚烷三醇的单分子树脂通过引入丙炔醇型官能团，大幅提升了对 EUV 光子的吸收效率，同时提高 2 倍的材料抗蚀性能。

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从实验室到产线

乐研助力开启光刻材料新纪元

随着 EUV 光刻技术的普及和 3nm 以下制程的商业化推进，金刚烷三醇及其衍生物将在更广阔的领域发挥作用。此外，作为高端光刻胶的核心原料，其供应链日益受到重视。

科研层面，国内科研机构已在金刚烷三醇衍生光刻胶领域取得一定的突破。

在产业开发层面，乐研试剂通过改进工艺，已在百公斤级量产上取得工艺突破，大大降低了产品成本。

乐研试剂通过工艺改进，大大降低了产品成本，可以百公斤级供应金刚烷三醇，产品详情请访问产品链接（https://www.leyan.com/99181-50-7.html）。

? 关于 乐研

乐研品牌隶属于上海皓鸿生物医药科技有限公司，是上市企业皓元医药（股票代码：688131）子公司。专注服务于医药研发领域，经过多年快速发展，已成为集研发、定制合成和销售于一体的高端试剂品牌。乐研拥有享誉业内的自主研发技术能力，秉承“研发实力打造高品质”的理念进行产品的开发，始终致力于为国内外化学和医药研发领域用户提供最优质的产品和最专业的服务，乐研开发和打造的产品系列主要包括： 90000+ 分子砌块、合成试剂、医药中间体和相关的仪器耗材。能满足用户从mg级到kg级、从标准化到定制化的实验室综合需求。

乐研的所有产品仅用作科学研究，我们不为任何个人用途提供产品和服务。